武汉罗博半导体申请红外图像增强方法及系统专利，提升红外成像清晰度_资讯

武汉罗博半导体申请红外图像增强方法及系统专利，提升红外成像清晰度

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2026-02-25 18:15:07

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国家知识产权局信息显示，武汉罗博半导体科技有限公司申请一项名为“红外图像增强方法及系统”的专利，公开号CN121558665A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明涉及半导体技术领域，公开了一种红外图像增强方法及系统，该方法通过在待测样品覆盖层的观测区域表面，临时施加一层折射率匹配介质，形成折射率匹配介质层，待测样品至少包括半导体基底以及覆盖于所述半导体基底的覆盖层；在红外光源照射所述折射率匹配介质时，红外成像物镜与折射率匹配介质层光学配合，形成变光光路；通过变光光路，利用红外相机对观测区域进行图像采集，获得待测样品的检测图像。通过折射率匹配，极大减少了覆盖层与空气界面的菲涅尔反射损失和由表面粗糙度引起的散射，使入射光能更高效地进入和离开样品，克服覆盖层负面影响，提升红外成像清晰度。

天眼查资料显示，武汉罗博半导体科技有限公司，成立于2023年，位于武汉市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉罗博半导体科技有限公司参与招投标项目3次，专利信息14条，此外企业还拥有行政许可1个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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