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江苏晋誉达半导体申请一种曝光机专利，保证了曝光质量

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2026-02-12 14:13:51

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国家知识产权局信息显示，江苏晋誉达半导体股份有限公司申请一项名为“一种曝光机”的专利，公开号CN121500686A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种曝光机，包括有定位座的机架，定位座上抽拉有载台、及载台定位校平机构，载台上设有板体快速定位机构和平面校准机构；载台下方的机架上设有微调平台，微调平台上设有带有片体吸附顶升机构的载片弹性调节、固定装置；机架上还设有上、下料移送机械手和上、下料料仓，上料移送机械手和上料料仓之间有寻边器；载台上方的机架上设有滑座和光源的固定光学组件，滑座上设有与固定光学组件衔接的活动光学组件和具有视觉检测相机的多方位调节机构。实现了对光刻板和承载光刻板载台的快速精确定位、便于取放，而且能保证光刻板与晶圆平行精度，保证了曝光质量；同时简化了取放结构、提升光源使用通用性，有利于小型化设计。

天眼查资料显示，江苏晋誉达半导体股份有限公司，成立于2014年，位于苏州市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏晋誉达半导体股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目31次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息109条，此外企业还拥有行政许可10个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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