英诺赛思申请基于浪涌电流的碳化硅MOSFET瞬态温升测量方法专利,提升测量精度与适配性
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2026-02-07 16:15:51
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国家知识产权局信息显示,无锡英诺赛思科技有限公司;清华大学无锡应用技术研究院;清华大学申请一项名为“基于浪涌电流下的碳化硅MOSFET瞬态温升测量方法”的专利,公开号CN121476885A,申请日期为2025年11月。

专利摘要显示,本发明公开了基于浪涌电流下的碳化硅MOSFET瞬态温升测量方法,包括:搭建红外热成像浪涌温度分析平台,固定碳化硅MOSFET后施加浪涌电流,同步采集芯片表面温度分布数据;调用多物理场协同热分析模型,输入器件材料、结构及初始温度参数,分析热传导、热辐射与焦耳热生成过程,输出初步热流数据;采用微分迭代瞬态结温计算法,结合热容量、热阻网络参数,得到不同时间节点瞬态结温计算值;运用扩展动态模式分解热流计算法,分解温度数据提取动态特征,结合芯片厚度、热扩散系数修正热流数据,将修正后数据代入迭代计算,得到最终瞬态温升测量结果,提升测量精度与适配性。

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来源:市场资讯

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