正大新材申请低折射率高透光二极管甲基四氢苯酐封装材料专利,为相关器件的性能提升与应用拓展提供有力支撑
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2026-02-07 14:41:28
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国家知识产权局信息显示,浙江正大新材料科技股份有限公司申请一项名为“一种低折射率高透光二极管甲基四氢苯酐封装材料及其制备方法”的专利,公开号CN121471651A,申请日期为2025年12月。

专利摘要显示,本发明涉及有机材料技术领域,且公开了一种低折射率高透光二极管甲基四氢苯酐封装材料及其制备方法,包括以下质量份原料:改性环氧树脂30~50份、改性甲基四氢苯酐20~35份、透光增强剂5~12份、三苯基膦0.1~1份、抗氧剂0.5~2份。制备方法包括:S1、改性环氧树脂、透光增强剂、改性甲基四氢苯酐和抗氧剂、三苯基膦混合搅拌,真空脱泡;S2、模具预热、注塑、保压、冷却、脱模;S3、固化退火,抛光处理,得到低折射率高透光二极管甲基四氢苯酐封装材料。本发明的封装材料实现了低折射率、高透光、强力学性能与优异耐老化性能,为相关器件的性能提升与应用拓展提供有力支撑。

天眼查资料显示,浙江正大新材料科技股份有限公司,成立于2004年,位于嘉兴市,是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本1280万人民币。通过天眼查大数据分析,浙江正大新材料科技股份有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目69次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息56条,此外企业还拥有行政许可26个。

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来源:市场资讯

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