光驰半导体取得用于化学气相沉积的供气系统专利，保证化学源供应的连续性与稳定性_资讯

光驰半导体取得用于化学气相沉积的供气系统专利，保证化学源供应的连续性与稳定性

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2026-02-04 20:43:14

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国家知识产权局信息显示，光驰半导体技术（上海）有限公司取得一项名为“一种用于化学气相沉积的供气系统”的专利，授权公告号CN223866759U，申请日期为2025年2月。

专利摘要显示，本实用新型提供了一种用于化学气相沉积的供气系统，所述的供气系统包括壳体，壳体的内部设置有物料源容器与起泡装置，物料源容器内容纳有化学源液，物料源容器通过供液管网连接起泡装置，起泡装置通过供气管网连通壳体的外界；壳体内还设置有外部进气管网、载气进气管网与清洗进气管网，外部进气管网连通物料源容器，用于提供增压气体，载气进气管网连通起泡装置，用于提供载气，清洗进气管网分别连通外部进气管网与载气进气管网，用于提供清洗气体。本实用新型体积小、操作简单，可以精确控制化学源液的补液量，保证化学源供应的连续性与稳定性。

天眼查资料显示，光驰半导体技术（上海）有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本13391.3043万人民币。通过天眼查大数据分析，光驰半导体技术（上海）有限公司参与招投标项目10次，专利信息49条，此外企业还拥有行政许可47个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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