上海升翕光电申请沉积速率控制方法专利,解决沉积速率不稳定引发缺陷增多的问题
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2026-02-04 18:43:55
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国家知识产权局信息显示,上海升翕光电科技有限公司申请一项名为“沉积速率控制方法、设备、存储介质及程序产品”的专利,公开号CN121451138A,申请日期为2026年1月。

专利摘要显示,本申请实施例提供一种沉积速率控制方法、设备、存储介质及程序产品。属于半导体器件技术领域。该方法包括:周期性获取沉积速率,所述沉积速率与数据采集时刻对应;根据所述数据采集时刻对应的沉积速率,确定所述数据采集时刻对应的沉积速率变化率;根据所述数据采集时刻对应的沉积速率及所述沉积速率变化率,判断是否增加功率阈值;若判断增加功率阈值,则提高功率输出最小值及功率输出最大值;采用大于所述功率输出最小值,且小于所述功率输出最大值的输出功率进行发光层沉积。该方法解决了动态调整功率输出时功率的调整范围较大,导致沉积速率不稳定,引发缺陷增多的问题。

天眼查资料显示,上海升翕光电科技有限公司,成立于2015年,位于上海市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本13015万人民币。通过天眼查大数据分析,上海升翕光电科技有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目26次,专利信息98条,此外企业还拥有行政许可8个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

来源:市场资讯

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