拓荆科技申请阀及半导体加工设备专利，保证阀及其管路内部的清洁效果_资讯

拓荆科技申请阀及半导体加工设备专利，保证阀及其管路内部的清洁效果

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2026-02-04 17:43:27

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国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司申请一项名为“阀及半导体加工设备”的专利，公开号CN121452357A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明提供了一种阀及一种半导体加工设备。所述阀包括气体解离通道、金属网及阀板。所述气体解离通道的第一端连接等离子体源，而其第二端连接抽气泵。所述金属网嵌套于所述气体解离通道内部，并连接外部电源，以增强所述等离子体源输出的等离子体的激发度。所述阀板经由旋转轴安装于所述气体解离通道的所述第一端。所述阀板的第一端转入所述气体解离通道中，以开通所述气体解离通道，并接触被所述金属网增强的等离子体。本发明可以通过在阀内部设置嵌套钨网的气体解离通道，增强等离子体源输出的等离子体的激发度，用于优化阀的内部的等离子体环境，使工艺气体进一步解离为等离子体并与杂质颗粒反应，从而保证阀及其管路内部的清洁效果。

天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目37次，专利信息367条，此外企业还拥有行政许可40个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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