朗德电子申请加热式气体传感器及其制备方法专利，能够提升加热式气体传感器的加热均匀性并降低加热功耗_资讯

朗德电子申请加热式气体传感器及其制备方法专利，能够提升加热式气体传感器的加热均匀性并降低加热功耗

创始人

2026-02-03 20:43:47

0次

国家知识产权局信息显示，浙江朗德电子科技有限公司申请一项名为“一种加热式气体传感器及其制备方法”的专利，公开号CN121431611A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本申请提及一种加热式气体传感器及其制备方法，加热式气体传感器包括绝缘体上硅晶圆，绝缘体上硅晶圆包括由下至上层叠设置的硅基衬底、埋氧层及半导体层，其中，半导体层被刻蚀形成有多个彼此间隔的硅纳米线沟道及位于相邻硅纳米线沟道之间的沟槽。埋氧层的上表面刻蚀形成有位于硅纳米线沟道下方的空腔，且空腔与沟槽连通。空腔内设有多个彼此间隔的加热元件，加热元件位于硅纳米线沟道与埋氧层之间。本申请能够提升加热式气体传感器的加热均匀性并降低加热功耗。

天眼查资料显示，浙江朗德电子科技有限公司，成立于2014年，位于嘉兴市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1322万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江朗德电子科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目6次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息60条，此外企业还拥有行政许可3个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业方法显示气体投资沟槽加热式传感器朗德专利埋氧层气体传感器空腔沟道硅纳米线

上一篇：精测电子最新公告：股东拟减持不超1.79%股份

下一篇：创视半导体取得提高图像传感器帧率方法专利

朗德电子申请加热式气体传感器及其制备方法专利，能够提升加热式气体传感器的加热均匀性并降低加热功耗

相关内容

热门资讯