国家知识产权局信息显示,福建慧芯激光科技有限公司申请一项名为“一种具有复合变形缓冲层的长波长光电器件”的专利,公开号CN121442844A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本发明公开了一种具有复合变形缓冲层的长波长光电器件,涉及半导体技术领域,包括相互堆叠的GaAs基化合物层、复合变形缓冲层和InP基化合物层,所述复合变形缓冲层包括变形生长层和缺陷阻挡层,所述变形生长层用于实现GaAs基化合物层和InP基化合物层之间的晶格过渡;所述缺陷阻挡层用于实现变形生长层与InP基化合物层之间的位错过滤。本发明所提供的复合变形缓冲层通过晶格过渡与缺陷过滤的功能解耦设计,解决了GaAs基与InP基化合物层间的不适配问题,避免缺陷穿透InP基核心功能区,充分发挥GaAs基的工程化优势与InP基的光电特性,降低器件成本的同时提升了稳定性与寿命,适用于长波长激光器、光电探测器等器件。
天眼查资料显示,福建慧芯激光科技有限公司,成立于2019年,位于泉州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1477.2497万人民币。通过天眼查大数据分析,福建慧芯激光科技有限公司参与招投标项目8次,财产线索方面有商标信息10条,专利信息65条,此外企业还拥有行政许可9个。
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来源:市场资讯