高梵科技申请光敏涂层面料着色装置专利，提高装置使用的广泛性_资讯

高梵科技申请光敏涂层面料着色装置专利，提高装置使用的广泛性

创始人

2026-01-30 19:42:54

0次

国家知识产权局信息显示，上海高梵科技有限公司申请一项名为“一种用于光敏涂层面料的着色装置”的专利，公开号CN121407329A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种用于光敏涂层面料的着色装置，涉及面料着色技术领域，包括染液箱，染液槽，安装架，第一支撑辊，第二支撑辊，导向辊，刮除机构，烘干机构。本发明通过设置刮除机构，利用两个固定辊对染液槽中移动出的面料进行挤压刮液，退去面料上粘附的大量染液，同时，还能根据工况需求调整两固定辊的相对位置状态，不仅使得面料在上料过程中能轻松从两固定辊之间穿过，还能适应对不同厚度和材质的面料进行挤压，提高装置使用的广泛性，此外，在两固定辊位置高度发生变化时，还能带动导向辊同步升降，调整对面料刮液时的张紧度，避免面料在挤压刮液前处于松散状态，保证面料从两固定辊之间顺畅经过。

天眼查资料显示，上海高梵科技有限公司，成立于2024年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，上海高梵科技有限公司专利信息95条。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

显示染液面料装置广泛性挤压着色涂层高梵专利光敏染液槽刮液

上一篇：积塔半导体取得OPC修正方法专利

下一篇：派芯微电子取得节能型低压控制电路专利，实现高效电压转换

高梵科技申请光敏涂层面料着色装置专利，提高装置使用的广泛性

相关内容

热门资讯