应用材料取得用于紫外半导体基板处理的原位光检测方法及设备专利_资讯

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2026-01-30 18:47:29

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国家知识产权局信息显示，应用材料公司取得一项名为“用于紫外半导体基板处理的原位光检测方法及设备”的专利，授权公告号CN114746989B，申请日期为2020年11月。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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