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宸微设备申请薄膜的制备方法及半导体制造设备专利，提高薄膜的形成质量

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2026-01-24 15:46:53

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国家知识产权局信息显示，宸微设备科技（苏州）有限公司申请一项名为“薄膜的制备方法及半导体制造设备”的专利，公开号CN121380890A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，一种薄膜的制备方法及半导体制造设备，方法包括：在反应腔室内，提供处理件，处理件具有开口；对处理件进行一次或多次工艺周期，在开口中以及处理件的表面形成薄膜，工艺周期包括：对处理件进行一次或多次沉积处理，使用卤族前驱体在开口的内壁以及处理件的表面形成薄膜材料层；使用与沉积处理相同的卤族前驱体对薄膜材料层进行一次或多次原位刻蚀处理，将开口内壁以及处理表面剩余的薄膜材料层作为子薄膜；将一次或多次工艺周期形成的一层或多层子薄膜作为薄膜。沉积处理和原位刻蚀处理使用相同的卤族前驱体在单一反应腔室内形成薄膜，能够在减少工艺步骤和工艺成本的同时，降低对其他膜层造成损伤的风险，提高薄膜的形成质量。

天眼查资料显示，宸微设备科技（苏州）有限公司，成立于2022年，位于苏州市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本3157.8947万人民币。通过天眼查大数据分析，宸微设备科技（苏州）有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目2次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息78条，此外企业还拥有行政许可4个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业制造方法卤族投资薄膜设备处理导体专利驱体处理件

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