长江存储申请用于形成半导体设备的方法专利，在层叠置体中形成垂直结构_资讯

长江存储申请用于形成半导体设备的方法专利，在层叠置体中形成垂直结构

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2026-01-23 11:42:44

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国家知识产权局信息显示，长江存储科技有限责任公司申请一项名为“用于形成半导体设备的方法”的专利，公开号CN121368128A，申请日期为2021年10月。

专利摘要显示，本公开内容的各方面提供了一种用于半导体设备制造的方法。该方法包括：通过对第一管芯的第一侧进行处理来在层叠置体中形成端部在第一层中的垂直结构。与第二层相比，第一层对于层叠置体具有更好的蚀刻选择性。该方法还包括：通过对第一管芯的与第一侧相对的第二侧进行处理来用第二层替换第一层。

天眼查资料显示，长江存储科技有限责任公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本12469608.0404万人民币。通过天眼查大数据分析，长江存储科技有限责任公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目1441次，财产线索方面有商标信息974条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可995个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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