捷捷微电:与中科院微电子研究所、西安电子科大合作研发第三代半导体器件
创始人
2026-01-20 16:11:33
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有投资者在互动平台向捷捷微电提问:“董秘你好,2026年1月,西电郝跃院士、张进成教授团队在《自然·通讯》和《科学进展》发表突破性成果,首创‘离子注入诱导成核’技术,解决了第三代半导体散热核心痛点,将半导体热阻降至原来的1/3,这一突破直接利好捷捷微电的氮化镓器件产业化进程,公司和西安电子科技大学郝跃院士团队的合作还在进行吗谢谢。”

针对上述提问,捷捷微电回应称:“尊敬的投资者,您好!感谢您的关注。公司与中科院微电子研究所、西安电子科大合作研发以SiC、GaN为代表第三代半导体材料的半导体器件,截至目前,公司拥有氮化镓和碳化硅相关发明专利5件和实用新型专利6件,此外,公司还有8个发明专利尚在申请受理中。公司目前有少量碳化硅器件的封测,该系列产品仍在持续研究推进过程中,尚未进入量产阶段。谢谢!”

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

来源:市场资讯

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