北方华创申请半导体工艺腔室及设备专利，解决镀膜质量不佳问题_资讯

北方华创申请半导体工艺腔室及设备专利，解决镀膜质量不佳问题

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2026-01-17 16:12:14

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国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“半导体工艺腔室及半导体工艺设备”的专利，公开号CN121320866A，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，本发明公开一种半导体工艺腔室及半导体工艺设备，所公开的半导体工艺腔室包括腔室本体、遮蔽件和承载装置，所述遮蔽件和所述承载装置可活动地设于所述腔室本体之内；在所述遮蔽件处于第一位置、且所述承载装置处于第三位置时，所述遮蔽件与所述承载装置相对，且所述遮蔽件、所述腔室本体和所述承载装置围成预清洗空间；在所述遮蔽件处于第二位置、且所述承载装置处于第四位置时，所述遮蔽件与所述承载装置错位分布，所述承载装置与所述腔室本体围成镀膜空间。上述方案能解决相关技术涉及的半导体工艺设备存在镀膜质量不佳的问题。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1355次，财产线索方面有商标信息68条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业投资华创装置设备导体工艺镀膜专利北京腔室半导体遮蔽件

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