瑞声科技申请声学传感器制备方法专利,提升声压级
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2026-01-08 18:37:11
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国家知识产权局信息显示,瑞声科技(新加坡)有限公司申请一项名为“声学传感器的制备方法及声学传感器”的专利,公开号CN121285247A,申请日期为2025年9月。

专利摘要显示,本发明实施例提供了一种声学传感器的制备方法,包括:提供基底单元包括第一硅层、第一氧化层以及第二硅层;于第二硅层顶部形成第二氧化层、压电复合层;图案化压电复合层及基底单元,形成暴露第一电极层部分顶面的第一开口、暴露第一氧化层部分顶面的第一狭缝、暴露第二氧化层部分顶面的第二狭缝;于第一、第二电极层上形成第一、第二金属垫;于压电复合层上涂覆形成第一薄膜材料层,于第一薄膜材料层上涂覆形成第二薄膜材料层;于第二薄膜材料层侧刻蚀以暴露出第二金属垫,平坦化第二薄膜材料层;于第一硅层底部刻蚀形成背腔。还提供一种声学传感器。该制备方法及声学传感器能提升声压级,减少制造困难、简化后续工艺,提高良率和长期可靠性。

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来源:市场资讯

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