ASML申请用于控制和清洁表膜隔膜的方法专利，施加电位差会产生作用于表膜隔膜上的洛伦兹力
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2026-01-02 20:08:31
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于控制和清洁表膜隔膜的方法”的专利，公开号CN121263740A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，一种用于控制表膜隔膜的组件，所述组件包括：至少一个磁性元件，所述至少一个磁性元件被配置成提供磁场；和导电表膜隔膜，所述导电表膜隔膜能够电连接至电压源且被配置成在预定方向上传导电流，其中，所述至少一个磁体和导电表膜隔膜被配置成使得施加电位差会产生作用于所述表膜隔膜上的洛伦兹力。也描述包括这样的组件的一种光刻设备和一种运输箱，以及一种用于控制表膜隔膜的方法。也描述一种这样的组件、光刻设备、运输箱和方法在光刻方法或设备中的用法。
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来源：市场资讯
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