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云箭集团申请立体电路制备方法专利，可提高化学镀的覆盖率

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2026-01-02 17:38:48

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国家知识产权局信息显示，湖南云箭集团有限公司申请一项名为“立体电路的制备方法”的专利，公开号CN121262744A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明涉及一种立体电路的制备方法。立体电路的制备方法，通过在基材表面涂覆激光敏感混合添加剂的方式在基材表面形成一层添加剂涂层，再在添加剂涂层上进行激光选择性活化以及化学镀铜，以在基材上形成镭雕立体电路。通过磷酸铜和石墨烯复配，在激光敏感混合添加剂涂覆在基材表面上之后，可提高基材表面的催化活性和激光能量吸收率，还可提高镭射立体电路的导电性能；通过聚乙烯醇和表面活化剂结合，可增强添加剂涂层与基材的界面结合力，减少激光活化边缘毛刺，进而增强镭射立体电路与基材之间的就结合力。上述立体电路的制备方法的使用，可提高化学镀的覆盖率、铜导体与基材之间的结合力、镭射立体电路的导电性，并减少线路边缘毛刺。

天眼查资料显示，湖南云箭集团有限公司，成立于2003年，位于怀化市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本36000万人民币。通过天眼查大数据分析，湖南云箭集团有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目1949次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息310条，此外企业还拥有行政许可88个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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