京东方华灿光电申请发光二极管及其制备方法专利，提升光反射效率与器件可靠性_资讯

京东方华灿光电申请发光二极管及其制备方法专利，提升光反射效率与器件可靠性

创始人

2025-12-29 19:36:57

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国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司申请一项名为“发光二极管及其制备方法”的专利，公开号CN121218752A，申请日期为2025年8月。

专利摘要显示，本公开提供了一种发光二极管及其制备方法。发光二极管包括：外延结构和复合反射结构；复合反射结构包括第一绝缘反射子层、金属反射子层和第二绝缘反射子层；第一绝缘反射子层位于外延结构的一侧，金属反射子层位于第一绝缘反射子层的远离外延结构的一侧，第二绝缘反射子层覆盖金属反射子层的远离第一绝缘反射子层的一侧且覆盖金属反射子层的外周壁，第二绝缘反射子层的边缘与第一绝缘反射子层相连。

天眼查资料显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司，成立于2014年，位于金华市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本380450万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（浙江）有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目44次，专利信息1033条，此外企业还拥有行政许可42个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业方法显示投资效率器件绝缘京东方反射专利子层外延灿光电二极管

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