两江联创电子申请导光板结构及制备方法专利，使光效利用率得到提升_资讯

两江联创电子申请导光板结构及制备方法专利，使光效利用率得到提升

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2025-12-27 11:07:19

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国家知识产权局信息显示，重庆两江联创电子有限公司申请一项名为“一种导光板结构及制备方法”的专利，公开号CN121208998A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明提供一种导光板结构及制备方法，该结构包括：依次层叠设置的：基板层、微结构层和反射层；所述基板层其入光侧设置有若干楔形锯齿；所述微结构层其面向所述基板层的一侧设置若干凹槽网点；若干所述凹槽网点的分布密度通过自然对数函数，从入光侧向远端逐渐递减；所述反射层其面向所述微结构层的一侧设置有与所述凹槽网点对应的若干所述锥形凸起。本发明通过采用薄型PMMA基板和一体化复合结构，摒弃了传统多层膜，使导光板结构总厚度大幅度降低；通过设置非对称楔形锯齿入光结构、基于数学模型的梯度凹槽网点设计以及带锥形凸起的反射层协同工作，使光效利用率得到提升。

天眼查资料显示，重庆两江联创电子有限公司，成立于2016年，位于重庆市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本100000万人民币。通过天眼查大数据分析，重庆两江联创电子有限公司参与招投标项目8次，专利信息347条，此外企业还拥有行政许可35个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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