中导光电申请亮暗场同时检测的光学系统专利，提高检测效率_资讯

中导光电申请亮暗场同时检测的光学系统专利，提高检测效率

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2025-12-08 18:38:18

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国家知识产权局信息显示，武汉中导光电设备有限公司申请一项名为“一种亮暗场同时检测的光学系统”的专利，公开号CN121068608A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本申请涉及一种亮暗场同时检测的光学系统，属于光学检测技术领域，包括成像单元，其包括沿光轴方向设置的物镜和筒镜；照明单元，其包括用于发出环形暗场光束的暗场照明模块，以及用于发出亮场光束的亮场照明模块；透反射单元，其包括设于物镜和筒镜之间的复合镜、与复合镜相互平行的二向色镜，以及环绕设于物镜外周的环形反射镜；本申请通过二向色镜和复合镜相互配合，能够将亮、暗场照明光路和成像光路合并在一起，实现暗场照明光和亮场照明光对被检目标表面不同区域的照明，从而实现高NA显微光学系统的亮、暗场同时扫描，简化了系统结构，降低了设备复杂度和制造成本，实现了对芯片亮暗场同时检测，提高了检测效率和操作便捷程度。

天眼查资料显示，武汉中导光电设备有限公司，成立于2013年，位于武汉市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉中导光电设备有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目5次，专利信息71条，此外企业还拥有行政许可3个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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