睿晶半导体申请掩模版的制作方法专利，提高图形与原始版图的一致性_资讯

睿晶半导体申请掩模版的制作方法专利，提高图形与原始版图的一致性

创始人

2025-12-08 17:09:14

0次

国家知识产权局信息显示，睿晶半导体（宁波）有限公司申请一项名为“掩模版的制作方法”的专利，公开号CN121069700A，申请日期为2025年11月。专利摘要显示，本发明提供一种掩模版的制作方法，其属于集成电路制造领域。所述掩模版的制作方法在将版图转移到掩模基板上之前，检测原始版图，并对原始版图的斜边上存在的连续的多个最小尺寸小于设定值的小阶梯图形进行平滑化处理，使得修正后的版图中所有的图形的尺寸均大于曝光机台最小曝光尺寸，则根据所述修正后的版图所形成的曝光图形不存在尺寸小于曝光机台最小曝光尺寸的图形，进而改善了在曝光机台上会由于曝光能量限制而无法正常成像的缺陷，提高了采用该掩模版所形成的图形与原始版图的一致性。

天眼查资料显示，睿晶半导体（宁波）有限公司，成立于2022年，位于宁波市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本85000万人民币。通过天眼查大数据分析，睿晶半导体（宁波）有限公司参与招投标项目6次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息27条，此外企业还拥有行政许可6个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

投资信息半导体尺寸版图睿晶宁波模版图形专利掩模版机台

上一篇：主力榜丨同类流入金额第一！半导体设备ETF（159516）流入1598.0万元

下一篇：校服被写侮辱性文字，9岁男孩勇敢发声！全网点赞

睿晶半导体申请掩模版的制作方法专利，提高图形与原始版图的一致性

相关内容

热门资讯