国家知识产权局信息显示,NEO半导体公司申请一项名为“3D存储器单元和阵列架构”的专利,公开号CN121079776A,申请日期为2024年4月。专利摘要显示,公开了各种3D存储器单元、阵列架构和工艺。在一个实施例中,提供了一种单元结构,包括:第一材料,其形成位线;第二材料,其形成耦合到位线的第一部分的存储区;以及第三材料,其形成连接到存储区和位线的第二部分和第三部分的沟道。单元结构还包括:第四材料,其形成连接到沟道的源极线;第五材料,其形成耦合到沟道的第一部分和源极线的第一部分的前栅极;以及第六材料,其形成耦合到沟道的第二部分和源极线的第二部分的背栅极。
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