三星显示申请氧化物半导体最佳组成比选择的模拟方法及电子装置专利，能够选择氧化物半导体的最佳组成比_资讯

三星显示申请氧化物半导体最佳组成比选择的模拟方法及电子装置专利，能够选择氧化物半导体的最佳组成比

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2025-12-06 17:37:56

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国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“用于选择氧化物半导体的最佳组成比的模拟方法和包括该氧化物半导体的电子装置”的专利，公开号CN121072088A，申请日期为2025年6月。

专利摘要显示，公开涉及一种用于选择氧化物半导体的最佳组成比的模拟方法和包括该氧化物半导体的电子装置。氧化物半导体包括：选自由铟（In）、镓（Ga）、锌（Zn）、锡（Sn）、银（Ag）、铝（Al）、镉（Cd）、镁（Mg）、锑（Sb）、硅（Si）、钛（Ti）和锆（Zr）组成的组中的至少两种元素；氧（O）；和不可避免的杂质。模拟方法包括：设定包括构成氧化物半导体的元素的各种组成比的模拟目标组成比集合；针对模拟目标组成比集合中包括的各种组成比中的每个组成比检查氧化物半导体是否满足式1、式2和式3；以及选择满足式1、式2和式3的组成比作为最佳组成比。式1、式2和式3可以与说明书中描述的相同。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

方法显示投资模拟半导体元素氧化物电子装置包括专利装置 Ga

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