欧诺半导体取得芯片制造用氧化炉控制参数优化方法及相关设备专利
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2025-12-06 10:07:47
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国家知识产权局信息显示，杭州欧诺半导体设备有限公司取得一项名为“芯片制造用氧化炉控制参数优化方法及相关设备”的专利，授权公告号CN120089614B，申请日期为2025年1月。
天眼查资料显示，杭州欧诺半导体设备有限公司，成立于2023年，位于杭州市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本7500万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州欧诺半导体设备有限公司财产线索方面有商标信息1条，专利信息13条。
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