上海华力微电子取得集成电路版图可制造性分析方法专利_资讯

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2025-12-05 15:39:07

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国家知识产权局信息显示，上海华力微电子有限公司取得一项名为“一种集成电路版图可制造性的分析方法”的专利，授权公告号CN114117993B，申请日期为2021年11月。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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