武汉华星光电申请阵列基板及显示面板专利，提高阵列基板的穿透率
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2025-12-05 12:09:49
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国家知识产权局信息显示，武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“阵列基板及显示面板”的专利，公开号CN121069663A，申请日期为2025年8月。专利摘要显示，本申请提供了一种阵列基板及显示面板，该阵列基板包括第一电极层、钝化层和第二电极层，第二电极层与钝化层的第一子钝化层在开口区依次堆叠于第一电极层上，第二电极层具有镂空部以暴露第一子钝化层，通过使第一子钝化层的折射率小于第一电极层的折射率，可以减小光线在第一子钝化层与第一电极层的界面处发生的界面反射损失，从而可以提高阵列基板的穿透率。
天眼查资料显示，武汉华星光电技术有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1191853.7749万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目668次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可263个。
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来源：市场资讯
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