荣芯半导体取得一种光学临近效应修正方法及掩膜版专利
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2025-12-02 14:10:38
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国家知识产权局信息显示，荣芯半导体（宁波）有限公司取得一项名为“一种光学临近效应修正方法、掩膜版”的专利，授权公告号CN120831863B，申请日期为2025年9月。
天眼查资料显示，荣芯半导体（宁波）有限公司，成立于2021年，位于宁波市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本41452.2292万人民币。通过天眼查大数据分析，荣芯半导体（宁波）有限公司共对外投资了6家企业，财产线索方面有商标信息15条，专利信息68条。
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来源：市场资讯
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