上海御微半导体申请表面缺陷检测装置及缺陷检测方法专利，解决单孔孔径光阑具有检出方向性的问题_资讯

上海御微半导体申请表面缺陷检测装置及缺陷检测方法专利，解决单孔孔径光阑具有检出方向性的问题

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2025-11-26 00:06:59

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国家知识产权局信息显示，上海御微半导体技术有限公司申请一项名为“一种表面缺陷检测装置及缺陷检测方法”的专利，公开号CN 121007903 A，申请日期为2024年5月。

专利摘要显示，本发明实施例公开了一种表面缺陷检测装置及缺陷检测方法，表面缺陷检测装置包括光源、孔径光阑、选光组件、调光组件和探测组件；光源用于提供检测光束；孔径光阑上设置两个正交的单孔，两个单孔内分别设置不同的选光组件，检测光束透过两个选光组件后形成相互独立、互不干扰的光束和第二光束；第一光束和第二光束以不同的照明角度照射在被测物表面后经被测物表面反射后进入探测组件的探测面；探测组件用于生成被测物表面沿横向照明和纵向照明的两个独立的表面图像信息。该装置可以独立对被检测物进行单级离轴照明，解决单孔孔径光阑具有检出方向性的问题。

天眼查资料显示，上海御微半导体技术有限公司，成立于2019年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本1200万人民币。通过天眼查大数据分析，上海御微半导体技术有限公司参与招投标项目36次，财产线索方面有商标信息45条，专利信息105条，此外企业还拥有行政许可10个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

缺陷单孔检测方向性装置表面光束导体组件专利选光孔径

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