新攀半导体取得半导体加工清洗装置专利，可降低用户清洗半导体的成本投入_资讯

新攀半导体取得半导体加工清洗装置专利，可降低用户清洗半导体的成本投入

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2025-11-25 21:12:55

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国家知识产权局信息显示，上海新攀半导体科技有限公司取得一项名为“一种半导体加工的清洗装置”的专利，授权公告号CN 223587894 U，申请日期为2024年12月。专利摘要显示，本实用新型公开了一种半导体加工的清洗装置，包括清洗装置主体和过滤机构；清洗装置主体侧壁连接有排液管和补充管，补充管设于排液管上侧；过滤机构设于清洗装置主体一侧，过滤机构包括过滤箱，过滤箱上连接有连通管，连通管与排液管相连，过滤箱内安装有过滤帘，过滤帘的下侧分别设有第一倾斜板和第二倾斜板，第一倾斜板与第二倾斜板相互错位，第一倾斜板和第二倾斜板最低处均设有漏孔。本实用新型可以对清洗液进行过滤处理，以去除清洗液中的金属以及颗粒物，使得清洗液能够持续清洗半导体，进而可以降低用户更换清洗液的频率，不仅可以提高清洗液的利用率，而且可以降低用户清洗半导体的成本投入。

天眼查资料显示，上海新攀半导体科技有限公司，成立于2005年，位于上海市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本50万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新攀半导体科技有限公司专利信息24条，此外企业还拥有行政许可1个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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