中国芯片攻坚的“双轨战略”：突破桌面尺寸EUV与光子芯片齐头并进
创始人
2025-11-24 18:09:39
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【中国在半导体领域正沿两条关键路径同步推进：一方面致力于缩小芯片制造设备的体积，另一方面则力图跨越至下一代芯片设计。】
- 桌面尺寸EUV光刻机：瞄准主流芯片制造
安徽光创科技有限公司发布了桌面尺寸的极紫外光刻光源。这一紧凑型设备瞄准需求量巨大的电动汽车、工业自动化和物联网领域至关重要的14纳米芯片生产节点，其目标是降低芯片生产成本，减少对进口、占地面积庞大的EUV光刻设备的依赖，从而帮助实现中国构建本土半导体供应链的目标。
- 面向未来的光子芯片
清华大学的研究团队成功研发出一种利用光子而非电子进行运算的原型光子芯片。实验室测试表明，其运算速度超过1 PHz，同时能耗不到传统CPU/GPU的1%。这项技术有望为人工智能、数据中心和自动驾驶系统带来巨大飞跃，目标是在未来几年内实现大规模生产。
- 清晰的“双轨”发展战略
中国的战略规划十分明确：
短期目标： 确保14纳米等成熟制程芯片的本土化生产，降低对外部技术的依赖。
长期布局： 投资于光子技术等后硅时代技术，旨在定义未来高性能计算的格局。
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