晶源信息申请曲线掩模版图的检验方法及相关产品专利，提高芯片制造良率
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2025-11-24 10:10:48
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国家知识产权局信息显示，深圳晶源信息技术有限公司申请一项名为“曲线掩模版图的检验方法及相关产品”的专利，公开号CN 120993666 A，申请日期为2025年10月。专利摘要显示，本发明提供了一种曲线掩模版图的检验方法及相关产品。曲线掩模版图的检验方法包括分别获取掩模版图的原始图形和优化图形，优化图形由原始图形经曲线光学邻近校正后得到；在原始图形存在对称结构的情况下，判断对称结构在优化图形中是否仍保持对称；根据对对称结构的对称性的判断结果，得到优化图形的检验结果。本检验方法实现了对曲线光学邻近校正后的曲线版图的对称性的有效检验，可有效阻止具有非对称变形的曲线掩模版图进入芯片制造环节，提高芯片制的造良率。
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