大家都知道，在芯片制造流程中，光刻机非常重要，是最核心的设备之一，其光刻成本占总晶圆制造成本的三分之一，光刻时间，占到整个工艺的40%以上。

但大家不知道的是，光刻中不仅光刻机重要，另外还需要一种特别重要的东西，这种东西，目前国内技术严重落后于国内际水平，还在100nm+的水平，高度依赖美、日、欧企业，可以说是被严重卡着脖子的。

这种产品就叫做光罩，也有说叫做它是光掩膜板的。

光刻机的原理，就是光线照射光罩，将光罩上的芯片电路图，投射到涂有光刻胶的晶圆表面，最后再进行蚀刻等，形成芯片。

所以光罩就相当于芯片的母板，没有这个母板，怎么制造芯片？设计图上的电路图，可没法直接投射至硅晶圆上的。

这个光罩，是一种高纯度石英玻璃基板，制造成成品光罩时，需要历经几十道工序，才能将芯片电路图精准的刻画到上面。

一般光罩上的图案是电路设计图的 4 倍，光刻机投射光罩时，利用光线成像原理，将图像再缩小至光罩的四分之一刻至硅晶圆上，就形成了精准的芯片电路。

光罩上的电路图的精准度，平整度有严格要求，所以制造光罩对材料、技术等的要求非常高。

目前整个光罩的核心技术，掌握在美国、日本、欧洲的企业手中，它们拥有着高端光罩制造材料、核心技术，以及尖端设备。

而国内也有一些能制造光罩的企业，比如清溢光电、路维光电和龙图光罩等，但大家支持的工艺，很多还在100nm+，严重落后国际水平，完全不能满足当前国内芯片制造的需求。

国内现有的100nm以下的光罩，大多都是买日本、美国等企业涂胶好的版回来，如果对方不卖给我们，会是什么后果，这个大家懂的吧。

所以说，虽然大家都知道光刻机重要，也都在关注光刻机，觉得只要搞定EUV，我们的芯片产业就高枕无忧了，但其实我们要补的课还很多，芯片产业是一个系列工程，并不是有一台机器就行的，还需要各种配套技术、材料、设备等，比如光罩，光刻胶等等，都需要突破。