国林科技：子公司产品满足半导体工艺需求_资讯

创始人

2025-09-18 12:04:44

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证券之星消息，国林科技(300786)09月18日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者提问：芯片光刻制造过程中的多重曝光需要清洗次数增加，对清洗洁净度有更高要求，请问公司的半导体臭氧设备能满足多重曝光工艺的适配需求吗？

国林科技回复：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。

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