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拓荆科技获得发明专利授权：“半导体工艺腔体”

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2025-08-29 06:04:39

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技（688072）新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体工艺腔体”，专利申请号为CN202111614005.X，授权日为2025年8月29日。

专利摘要：本发明揭露一种半导体工艺腔体，其包含一电热偶。电热偶具有一管套，其包覆有内芯导线且具有一下游端及一上游端，所述下游端作为感温部且插入射频所施加的一部件中，所述上游端电连接至一腔体。其特征在于：所述腔体接地，使所述射频于所述管套表面所引起的流动电流能够经由所述腔体流至接地，使射频被屏蔽在所述腔体内。

今年以来拓荆科技新获得专利授权38个，较去年同期增加了65.22%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了3.01亿元，同比减4.33%。

通过天眼查大数据分析，拓荆科技股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目98次；财产线索方面有商标信息110条，专利信息709条，著作权信息32条；此外企业还拥有行政许可31个。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。

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