新顺微电子申请快恢复二极管半导体器件及其制备工艺专利，提高了面积利用率_资讯

新顺微电子申请快恢复二极管半导体器件及其制备工艺专利，提高了面积利用率

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2025-08-23 21:05:11

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金融界2025年8月23日消息，国家知识产权局信息显示，江苏新顺微电子股份有限公司申请一项名为“一种快恢复二极管半导体器件及其制备工艺”的专利，公开号CN120529597A，申请日期为2025年07月。

专利摘要显示，本发明公开了一种快恢复二极管半导体器件及其制备方法，所述器件包括基底、自基底上表面向下刻蚀形成的若干上沟槽、自基底下表面向上刻蚀形成的若干下沟槽，上沟槽的内侧壁以及连接上沟槽之间的上表面区域掺杂形成第一掺杂层，下沟槽的内侧壁以及连接下沟槽之间的下表面区域掺杂形成第二掺杂层，上沟槽内填充金属形成第一电极，下沟槽内填充金属第二电极。

天眼查资料显示，江苏新顺微电子股份有限公司，成立于2002年，位于无锡市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本10686.2522万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏新顺微电子股份有限公司参与招投标项目8次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息151条，此外企业还拥有行政许可18个。

来源：金融界

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