韩日同时出手!DRAM芯片竖着放:AI内存散热难题有解了
创始人
2026-07-11 13:36:45
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快科技7月11日消息,韩国和日本研究人员在2026年IEEE/JSAP VLSI技术与电路研讨会上,同时提出了两种全新的HBM(高带宽内存)方案,核心思路惊人一致:把DRAM(动态随机存取内存)芯片竖起来放,解决AI芯片越来越严重的散热瓶颈。

韩国方案叫V-Die,由蔚山国家科学技术研究所(UNIST)提出。这套设计把定制DRAM芯片旋转90度竖直放置,用TSV(硅通孔)释放芯片面积来塞更多内存单元,每个芯片底部独立走I/O通道,相邻芯片之间还塞了液冷散热通道。

模拟测试中,同样容量下V-Die跑GPT-3级别负载达到540 tokens/s,而传统HBM4只有296 tokens/s,性能翻了近一倍。

日本方案叫MOSAIC,由东京大学团队主导,思路类似但重点不同,它用正交芯片堆叠加上无接触芯片间接口,数据传输不靠物理触点,而是通过微型电感线圈耦合,每个通道速率跑到4 Gbps。

研究团队称这种结构能让DRAM-on-GPU配置下的容量达到HBM4的两倍。

两种方案直指同一个痛点,AI芯片被内存卡脖子,现代AI加速器算力够强,但大模型要频繁在内存和计算单元之间搬运海量数据,HBM靠垂直堆叠DRAM芯片靠近处理器来缓解这个矛盾,英伟达Blackwell Ultra B300就配了288GB HBM3E。

但堆得越高散热越难,V-Die和MOSAIC本质上都是用"侧放"换散热空间,顺便还把带宽和容量一起拉上去了。

不过这两项技术目前还停留在论文阶段,距离量产还有距离。

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