国家知识产权局信息显示，北京京东方技术开发有限公司、京东方科技集团股份有限公司取得一项名为“真空晶体管、阵列基板及电子设备”的专利，授权公告号CN224400357U，申请日期为2025年6月。

专利摘要显示，本公开的实施例提供了一种真空晶体管、阵列基板及电子设备，涉及真空电子技术领域，用于提高栅极对真空隧穿电流的控制力，提升真空晶体管的开关比。真空晶体管包括衬底基板、第一电极、栅极和第二电极和通孔：第一电极、栅极和第二电极，沿第一方向且逐渐远离衬底基板的方向，依次层叠地设置于衬底基板上，第一方向为衬底基板的厚度方向；第一电极和栅极之间，及栅极和第二电极之间均沿第一方向具有间隔；通孔沿第一方向贯穿第二电极，以及第二电极与第一电极之间的膜层，并暴露第一电极背向衬底基板的一侧表面；其中，栅极在衬底基板的正投影与第二电极在衬底基板的正投影交叠。

天眼查资料显示，北京京东方技术开发有限公司，成立于2016年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3800万人民币。通过天眼查大数据分析，北京京东方技术开发有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目95次，专利信息4268条，此外企业还拥有行政许可4个。

京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3704432.8064万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了73家企业，参与招投标项目348次，财产线索方面有商标信息789条，专利信息67849条，此外企业还拥有行政许可47个。

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