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拓亚半导体取得半导体蚀刻气体流量精准控制装置专利，显著提高流量监测的准确性

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2026-06-19 11:18:00

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国家知识产权局信息显示，拓亚半导体科技（云南）有限公司取得一项名为“一种半导体蚀刻工序中的气体流量精准控制装置”的专利，授权公告号CN224386114U，申请日期为2025年8月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种半导体蚀刻工序中的气体流量精准控制装置，涉及流量控制技术领域，包括固定管，用于气体的导向；抽气泵，安装于固定管上，用于抽气；气体流量监测组件，设置于固定管的内部，且沿气体流动方向设置于抽气泵的后侧，用于对气体流量的实时监测，其包括：承载架，固定于固定管的内壁上；滑动架，贯穿并滑动于承载架上。本申请通过红外测距仪与压力传感器的协同作用，实现对气体流量的双重监测，红外测距仪通过滑动架与承载架的相对位移反映流量大小，压力传感器直接感知气流压力，两者信号经终端对比验证，有效降低单一传感器的误差干扰，显著提高流量监测的准确性。

天眼查资料显示，拓亚半导体科技（云南）有限公司，成立于2023年，位于昆明市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓亚半导体科技（云南）有限公司共对外投资了1家企业，专利信息4条，此外企业还拥有行政许可1个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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