北方华创申请半导体工艺腔室及半导体热处理设备专利，避免污染晶圆反应区内的晶圆_资讯

北方华创申请半导体工艺腔室及半导体热处理设备专利，避免污染晶圆反应区内的晶圆

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2026-03-28 01:45:05

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国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“半导体工艺腔室及半导体热处理设备”的专利，公开号CN121748250A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，本申请公开一种半导体工艺腔室及半导体热处理设备，属于半导体技术领域。半导体工艺腔室包括腔室本体以及内腔室，内腔室设置于腔室本体内，内腔室的内部空间作为等离子体产生区，内腔室为金属阻隔结构，腔室本体内设有晶圆反应区，等离子体产生区与晶圆反应区相对，且内腔室设有通孔，等离子体产生区通过通孔与晶圆反应区连通。半导体热处理设备包括上述的半导体工艺腔室和供气管路，供气管路用于为内腔室提供工艺气体，以产生等离体子体。如此设置，内腔室的腔壁阻挡金属离子轰击腔室本体的腔壁，避免金属离子扩散至晶圆反应区，从而避免污染晶圆反应区内的晶圆，有利于提升工艺效果。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1395次，财产线索方面有商标信息72条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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