邦粹通信申请集成电路后端布局RDL层设计方法专利,形成低阻抗电源通路
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2026-02-28 20:43:43
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国家知识产权局信息显示,邦粹(上海)通信有限公司申请一项名为“一种集成电路后端布局的RDL层设计方法”的专利,公开号CN121580953A,申请日期为2025年11月。

专利摘要显示,本发明公开了一种集成电路后端布局的RDL层设计方法,包括以下步骤:S1.数字后端布局布线数据准备:通过建立设计基础环境,为为电源网络提供准确物理基础;S2.创建bump:通过优化电源/地凸点物理布局,为电源/地网络分配提供结构化载体;S3.分配电源和地属性:通过建立电源网络逻辑划分,为后续凸/凹型RDL的互锁结构提供基础;S4.以电源bump为中心规划对应的RDL层:通过构建电源传输主干网络,形成低阻抗电源通路;S5.以地bump为中心规划对应的RDL层:通过构建接地回流网络,以减少电源/地环路面积,抑制噪声耦合;S6.创建电源/地RDL层并贯通:通过将电源或地线进行全局贯通消除电流瓶颈,实现全局低阻抗互联。

天眼查资料显示,邦粹(上海)通信有限公司,成立于2023年,位于上海市,是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析,邦粹(上海)通信有限公司共对外投资了1家企业,专利信息66条。

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来源:市场资讯

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