半导体级超纯水处理系统：标准、工艺与技术趋势
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2026-02-21 23:11:46
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半导体芯片的精密制造，离不开一项关键支撑：超纯水。
水中的离子、颗粒、有机物等杂质，可能引发电路短路、氧化层缺陷等问题，是影响芯片良率的重要因素之一。
半导体级超纯水因此有着极为严格的标准：通常要求电阻率持续达到18.2 MΩ·cm（25℃），总有机碳（TOC）含量需低于1 ppb，并对颗粒物、微生物等指标有着严格的控制要求。
实现这一高标准，依赖于一套完整的系统工程。典型工艺通常包括多级预处理、反渗透（RO）、电去离子（EDI）以及后续的精处理单元。通过紫外线、抛光混床及终端过滤等技术的组合，并依托全封闭循环分配系统，可致力于实现水质的持续稳定。
随着半导体制程的不断演进，对超纯水的纯度、系统智能化及可靠性提出了更高要求。恒大兴业以稳定高效的超纯水处理系统，为半导体制造提供可靠的水质保障与专业服务。
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