卡尔蔡司SMT取得半导体光刻掩模检验装置和方法专利
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2026-02-17 12:48:49
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国家知识产权局信息显示,卡尔蔡司SMT有限责任公司取得一项名为“半导体光刻的掩模的检验装置和方法”的专利,授权公告号CN115308990B,申请日期为2018年7月。

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