四方光电申请气敏浆料及其制备方法和应用专利，使制得的MEMS气体传感器具有优异的可靠性_资讯

四方光电申请气敏浆料及其制备方法和应用专利，使制得的MEMS气体传感器具有优异的可靠性

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2026-02-04 16:12:59

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国家知识产权局信息显示，四方光电股份有限公司申请一项名为“一种气敏浆料及其制备方法和应用”的专利，公开号CN121453852A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本申请属于气体传感器技术领域，本申请公开了一种气敏浆料及其制备方法和应用。本申请中的气敏浆料包括以下原料：金属氧化物气敏材料、铂粉、硅溶胶、有机载体、羧甲基纤维素、低温熔融玻璃粉、十二烷基磺酸钠和抗氧化剂。本申请制得的气敏浆料通过选择合适的金属氧化物气敏材料、有机载体及其他掺料，从而使其涂敷在MEMS芯片后成膜厚度均匀、粘附性好、吸湿性低、抗氧化性强，从而使制得的MEMS气体传感器的重复性好、长期工作稳定，具有优异的可靠性。

天眼查资料显示，四方光电股份有限公司，成立于2003年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本10010万人民币。通过天眼查大数据分析，四方光电股份有限公司共对外投资了9家企业，参与招投标项目65次，财产线索方面有商标信息22条，专利信息227条，此外企业还拥有行政许可37个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业显示气体光电股份投资四方传感器专利应用的可靠性气体传感器气敏天眼浆料

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