武汉楚兴技术申请图像传感器及其制备方法专利，提高图像传感器的成像质量_资讯

武汉楚兴技术申请图像传感器及其制备方法专利，提高图像传感器的成像质量

创始人

2026-01-31 14:16:03

0次

国家知识产权局信息显示，武汉楚兴技术有限公司申请一项名为“一种图像传感器及其制备方法及电子设备”的专利，公开号CN121419354A，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，本申请公开了一种图像传感器及其制备方法及电子设备，涉及光电图像传感器设计与制造技术领域，图像传感器的制备方法包括：提供半导体衬底；在半导体衬底上形成像素单元，像素单元包括至少两种用于感测不同波段光线的子像素；在像素单元的入光侧形成透镜层，透镜层包括多个微透镜；在透镜层的入光侧形成增透结构，增透结构包括多个增透单元，增透单元的厚度与相对的子像素能够感测的光线的波段正相关。本申请技术方案能够在各个子像素的入光侧形成与子像素所能够感测的光线的波长正相关的增透单元，能够使得不同颜色子像素具有相同或是相近的光透过率，从而提高图像传感器的成像质量。

天眼查资料显示，武汉楚兴技术有限公司，成立于2022年，位于武汉市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2074316.847826万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉楚兴技术有限公司参与招投标项目40次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息111条，此外企业还拥有行政许可321个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

成像技术投资单元图像传感器包括武汉专利透镜武汉楚兴技术图像传感器透镜层像素

上一篇：阿里巴巴取得电子地图中建筑物模型构建方法专利

下一篇：伊德电子科技取得速度传感器专利，避免输出错误的助力信号

武汉楚兴技术申请图像传感器及其制备方法专利，提高图像传感器的成像质量

相关内容

热门资讯