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安泊智汇半导体设备申请提高去除半导体产品金属氧化层效率的设备及方法专利，能够增加甲酸气体在反应腔体内的活性

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2026-01-20 21:10:36

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国家知识产权局信息显示，安泊智汇半导体设备（上海）有限公司申请一项名为“提高去除半导体产品金属氧化层效率的设备及方法”的专利，公开号CN121358223A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明提供了一种提高去除半导体产品金属氧化层效率的设备及方法，该设备包括反应腔体、甲酸供应单元、射频发生装置、射频能量导入结构，反应腔体用于容纳待处理半导体产品并提供工艺环境，甲酸供应单元通过管路连接至所述甲酸气体入口，用于向所述反应腔体内提供甲酸气体，射频能量导入结构用于将所述射频发生装置产生的射频能量耦合至所述甲酸气体，以在半导体产品处理过程提高甲酸分子与半导体产品表面金属氧化物的反应速率。该设备能够增加甲酸气体在反应腔体内的活性，提高去除反应腔体内金属氧化层的速率，而且避免了现有技术中通过加热甲酸供应单元以及改变甲酸供应单元压力环境导致的甲酸气体浓度不稳定的问题。

天眼查资料显示，安泊智汇半导体设备（上海）有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1481.4126万人民币。通过天眼查大数据分析，安泊智汇半导体设备（上海）有限公司参与招投标项目4次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息22条，此外企业还拥有行政许可4个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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