三星显示申请用于沉积的掩模和电子装置专利，增强图案被图案绝缘层覆盖
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2026-01-17 01:07:51
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国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“用于沉积的掩模和电子装置”的专利，公开号CN121320868A，申请日期为2025年6月。
专利摘要显示，本公开涉及用于沉积的掩模和电子装置。所述用于沉积的掩模包括：彼此间隔开的多个单元区域和在平面图中围绕所述单元区域的外围区域；基体层，具有第一表面和与所述第一表面背对的第二表面，所述基体层限定分别对应于所述多个单元区域的多个第一开口；图案绝缘层，包括具有比所述基体层的热膨胀系数大的热膨胀系数的材料，所述图案绝缘层在所述基体层的所述第一表面上具有分别对应于所述多个单元区域的多个图案部分，所述多个图案部分中的每一个限定多个狭缝；以及增强图案，在所述外围区域中，所述增强图案包括具有与所述基体层的所述热膨胀系数不同的热膨胀系数的材料，所述增强图案被所述图案绝缘层覆盖。
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来源：市场资讯
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