上海微世半导体取得晶粒自动清洗设备专利，降低了人力成本_资讯

上海微世半导体取得晶粒自动清洗设备专利，降低了人力成本

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2025-12-27 23:08:35

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国家知识产权局信息显示，上海微世半导体有限公司取得一项名为“一种晶粒自动清洗设备”的专利，授权公告号CN223717860U，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，一种晶粒自动清洗设备，包括清洗容器、超声波振荡器、清洗托板、供液装置以及回液装置，所述清洗容器设于所述超声波振荡器上，所述清洗容器的壁体上具有进液孔和出液孔，所述进液孔和出液孔均与所述清洗容器的内底面齐平，所述清洗托板与所述内底面平行且高于所述进液孔和出液孔，所述清洗托板与所述清洗容器的壁体的内表面固定，其上具有均匀布置、上下方向的多个通孔，所述通孔的孔径小于待清洗晶粒的粒径，所述供液装置和回液装置分别与所述进液孔和出液孔连接，所述供液装置与进液孔的连接处具有第一阀门，所述回液装置与出液孔的连接处具有第二阀门。本实用新型清洗效果好，便捷高效，降低了人力成本。

天眼查资料显示，上海微世半导体有限公司，成立于2010年，位于上海市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海微世半导体有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息72条，此外企业还拥有行政许可3个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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