国家知识产权局信息显示,崇克工程陶瓷有限公司申请一项名为“具有SiC涂层的RBSiC组件、SiC涂层的用途及制造组件的方法”的专利,公开号CN121039083A,申请日期为2023年5月。
专利摘要显示,本发明涉及一种组件(1),其包括由反应烧结碳化硅(RBSiC)制成的组件本体(2),该组件本体(2)具有至少部分涂覆有涂层(4)的本体表面(3),所述涂层(4)由碳化硅(SiC)构成且层厚度至少为25 µm。本发明还涉及此种SiC涂层的用途以及制造包含SiC涂层的组件的方法。
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