国家知识产权局信息显示,武汉敏声新技术有限公司申请一项名为“一种薄膜体声波滤波器的制备方法及薄膜体声波滤波器”的专利,公开号CN121036718A,申请日期为2025年8月。
专利摘要显示,本发明公开了一种薄膜体声波滤波器的制备方法及薄膜体声波滤波器,该制备方法包括提供硅基衬底。在硅基衬底的一侧沉积二氧化硅材料以形成第一绝缘层,第一绝缘层中包括第一凹槽,第一凹槽内包括硅材料的第一牺牲层。在第一绝缘层远离硅基衬底的一侧沉积压电层,并在压电层远离硅基衬底的一侧制备图案化的第二牺牲层和图案化的第三牺牲层,沿硅基衬底的厚度方向,第二牺牲层和第三牺牲层均与第一牺牲层至少部分交叠,且第二牺牲层和第三牺牲层的材料均包括硅。同时释放第一牺牲层、第二牺牲层以及第三牺牲层。如此,不同牺牲层可以在同一工艺中同时释放,减小工艺成本,且避免多次不同材料的牺牲层释放时,由于工艺原因导致器件性能下降。
天眼查资料显示,武汉敏声新技术有限公司,成立于2019年,位于武汉市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2411.5347万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉敏声新技术有限公司共对外投资了4家企业,参与招投标项目6次,财产线索方面有商标信息36条,专利信息334条,此外企业还拥有行政许可2个。
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